項目編號 : CBNB-20262045
公布日期 : 2026-02-11
受招標(biāo)人委托對下列產(chǎn)品及服務(wù)進(jìn)行國際公開競爭性招標(biāo)，于2026-02-11在 公告。本次招標(biāo)采用傳統(tǒng)招標(biāo)方式，現(xiàn)邀請合格投標(biāo)人參加投標(biāo)。1、招標(biāo)條件項目概況:甬江實驗室因發(fā)展需要，需采購雙槍電子束蒸發(fā)系統(tǒng)和多腔多靶磁控濺射系統(tǒng)各1套。資金到位或資金來源落實情況:項目所需資金已經(jīng)落實。項目已具備招標(biāo)條件的說明:項目已具備招標(biāo)條件。2、招標(biāo)內(nèi)容招標(biāo)項目編號:0762-2640CBNB2002招標(biāo)項目名稱:甬江實驗室采購雙槍電子束蒸發(fā)系統(tǒng)和多腔多靶磁控濺射系統(tǒng)項目項目實施地點(diǎn):中國浙江省招標(biāo)產(chǎn)品列表(主要設(shè)備):
| 序號 | 產(chǎn)品名稱 | 數(shù)量 | 簡要技術(shù)規(guī)格 | 備注 |
| 1 | 雙槍電子束蒸發(fā)系統(tǒng) | 1套 | 雙槍電子束蒸發(fā)系統(tǒng)配置2套電子槍和2套坩堝，在冷泵的作用下達(dá)到高真空狀態(tài)，可用于單金屬或者合金薄膜的蒸發(fā)，最大支持8英寸晶圓襯底，兼容2英寸、4英寸和6英寸襯底。 | / |
| 2 | 多腔多靶磁控濺射系統(tǒng) | 1套 | 多腔多靶磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備主要包括進(jìn)樣傳送系統(tǒng)，真空系統(tǒng)、 鍍膜工藝系統(tǒng)、輔助工藝系統(tǒng)和工藝控制系統(tǒng)等組成。 | / |
3、投標(biāo)人資格要求投標(biāo)人應(yīng)具備的資格或業(yè)績:投標(biāo)人必須是投標(biāo)產(chǎn)品（雙槍電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、多腔多靶磁控濺射系統(tǒng)）的制造商或投標(biāo)產(chǎn)品的制造商授權(quán)的代理商，如為代理商需提供制造商針對本項目的授權(quán)書。是否接受聯(lián)合體投標(biāo):不接受未領(lǐng)購招標(biāo)文件是否可以參加投標(biāo):不可以4、
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來源：中國電力招標(biāo)采購網(wǎng)?編輯：cbbiddin